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從“制造”到“智造”:中圖光學測量儀器的進階與應用

更新時間:2024-10-12      點擊次數(shù):436

在當今全球化和科技快速發(fā)展的時代,制造業(yè)正經(jīng)歷著從傳統(tǒng)的“制造"模式向智能化的“智造"模式的深刻轉變。消費者對產品質量和個性化的要求越來越高,產品的更新?lián)Q代速度加快,傳統(tǒng)的制造模式難以滿足這些需求。

例如,在半導體芯片制造領域,隨著芯片制程的不斷縮小,對芯片表面的平整度和粗糙度等微觀幾何特征的要求越來越高。同時,3C電子行業(yè)的快速發(fā)展也促使產品更新?lián)Q代加速,對產品質量和個性化的要求也日益嚴苛。同時,勞動力成本上升、原材料價格波動等因素也給制造業(yè)帶來了巨大的壓力。

在這種背景下,制造業(yè)必須轉型升級,實現(xiàn)智能化生產,提高生產效率和產品質量,降低成本,增強市場競爭力。這一轉變不僅是技術的革新,更是適應市場競爭和滿足社會需求的必然選擇。在這個過程中,先進的測量儀器起著至關重要的作用,它們?yōu)橹圃鞓I(yè)提供了精確的數(shù)據(jù)支持和質量保障。


從“制造"到“智造",中圖光學測量儀器為提高產品質量和推動行業(yè)發(fā)展提供有力的技術支持。

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1、SuperView W1光學3D表面輪廓儀

(1)產品特點與應用

SuperView W1光學3D表面輪廓儀以其先進的白光干涉技術在精密測量領域脫穎而出。它能夠對各種精密器件及材料表面進行亞納米級測量,單一掃描模式即可滿足從超光滑到粗糙、鏡面到全透明或黑色材質等所有類型樣件表面的測量,可測各類從納米到微米級別工件的粗糙度、平整度、微觀幾何輪廓、曲率等。在半導體制造中,它可以精確測量芯片表面的微觀幾何特征,為芯片制造工藝的優(yōu)化提供關鍵數(shù)據(jù)支持,確保芯片在更小制程下的性能和穩(wěn)定性。

(2)助力“智造"轉型

該儀器的高效測量功能,如單區(qū)域自動測量、多區(qū)域自動測量、自動拼接測量和編程測量等,大大提高了測量效率,符合智能化生產對高效檢測的要求。同時,其精準的數(shù)據(jù)處理與分析能力,包括位置調整、去噪、濾波、提取四大模塊的數(shù)據(jù)處理功能以及粗糙度分析、幾何輪廓分析、結構分析、頻率分析、功能分析等五大分析功能,能夠獲取準確的2D、3D參數(shù),為產品質量控制和生產工藝優(yōu)化提供了有力依據(jù)。

2、VT6000共聚焦顯微鏡

(1)產品特點與應用

VT6000系列共聚焦顯微鏡采用共聚焦技術,為精密器件及材料表面的微納米級測量提供了可靠的解決方案。它具備3D測量功能,能夠表征微觀3D形貌的輪廓尺寸及粗糙度測量功能,提供更全面的表面形貌信息。在光學加工領域,它可以精確測量光學鏡片的表面粗糙度和微觀幾何輪廓,確保光學鏡片的光學性能符合高標準要求。

(2)助力“智造"轉型

除了3D測量功能外,它還具備影像測量功能可進行長度、角度、半徑等尺寸測量,以及自動拼接功能能夠實現(xiàn)大區(qū)域的拼接縫合測量。這些功能與精準的數(shù)據(jù)處理與分析能力,包括調整位置、糾正、濾波、提取四大模塊的數(shù)據(jù)處理功能以及粗糙度分析、幾何輪廓分析、結構分析、頻率分析、功能分析等五大分析功能相結合,確保測量結果的準確性,為生產工藝優(yōu)化和產品質量提升提供了重要支持,推動制造業(yè)向智能化邁進。

3、SuperView WT3000復合型光學3D表面輪廓儀

(1)集合優(yōu)點

·測量模式的集成:當測量超光滑和透明的表面形貌時,可使用白光干涉模式的高精度測量能力,可獲得高精度無失真的圖像并進行粗糙度等參數(shù)的分析;當測量有尖銳角度的粗糙表面特征時,使用共聚焦顯微鏡模式的大角度測量能力,可實現(xiàn)大角度的3D形貌圖像重構。

·廣泛的測量范圍:能夠對從超光滑到粗糙、低反射率到高反射率的物體表面進行測量,涵蓋了SuperView W1和VT6000的測量范圍,可測各類從納米到微米級別工件的粗糙度、平整度、微觀幾何輪廓、曲率等。

·精準的數(shù)據(jù)處理與分析:提供位置調整、去噪、濾波、提取四大模塊的數(shù)據(jù)處理功能,以及粗糙度分析、幾何輪廓分析、動態(tài)分析、頻率分析、功能分析等五大分析功能,與SuperView W1和VT6000的數(shù)據(jù)處理和并行的功能相似,確保測量結果的準確性。

(2)應用優(yōu)勢

·滿足多樣化需求:無論是在半導體制造、光學加工等超精密加工行業(yè),還是在航空航天、科研院所等領域,都能滿足對精密器件及材料表面進行測量的需求。在當前半導體芯片制造對微觀幾何特征要求高的背景下,它能提供全面準確的測量,確保芯片質量。

·提供全面的評價標準:可提供依據(jù)ISO/ASME/EUR/GBT四大國內外標準共計300余種2D、3D參數(shù)作為評價標準,為產品質量的評估提供了全面的依據(jù),符合不同行業(yè)對產品質量評估的規(guī)范要求。


這三款光學測量儀器能夠精確測量產品表面的粗糙度、平整度、微觀幾何輪廓等參數(shù),為產品質量的控制提供了準確的數(shù)據(jù)支持;測量不同階段產品的表面形貌,為生產工藝的優(yōu)化提供數(shù)據(jù)依據(jù);通過提高產品質量和優(yōu)化生產工藝,制造商可以降低產品的廢品率和返工率,從而降低生產成本。同時,這三款儀器的高效測量功能也可以提高測量效率,減少測量時間和人力成本。在當前制造業(yè)競爭激烈,成本控制至關重要的情況下,這三款儀器為企業(yè)提供了有效的成本控制手段。


例如在3C電子行業(yè),通過精確測量手機屏幕玻璃的粗糙度和微觀幾何輪廓,可以確保屏幕的顯示效果和觸感。通過對測量數(shù)據(jù)的分析,制造商可以及時發(fā)現(xiàn)產品存在的問題,采取相應的措施進行改進,從而提高產品質量。

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在半導體制造中,通過測量芯片表面在不同工藝階段的粗糙度和微觀幾何輪廓,可以優(yōu)化光刻、蝕刻等工藝,提高芯片的制造質量和生產效率。

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從“制造"到“智造"是制造業(yè)發(fā)展的必然趨勢,先進的測量儀器是實現(xiàn)這一轉變的重要支撐。在未來的制造業(yè)發(fā)展中,這些測量儀器將不斷創(chuàng)新和發(fā)展,為制造業(yè)的智能化升級提供更強大的動力。

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