簡要描述:SuperViweW1白光干涉三維輪廓儀chotest采用集合了相移法PSI的高精度和垂直法VSI的大范圍兩大優(yōu)點(diǎn)的擴(kuò)展型相移算法EPSI,單一模式即可適用于從平面到弧面、超光滑到粗糙等各種表面類型,其3D重建算法,自動濾除樣品表面噪點(diǎn),在硬件系統(tǒng)的配合測量精度可達(dá)亞納米級別,讓3D測量變得簡單。
詳細(xì)介紹
品牌 | CHOTEST/中圖儀器 | 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) |
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 農(nóng)業(yè),能源,電子,電氣,綜合 |
基于白光干涉原理,中圖儀器自主研發(fā)生產(chǎn)的SuperViweW1白光干涉三維輪廓儀chotest采用集合了相移法PSI的高精度和垂直法VSI的大范圍兩大優(yōu)點(diǎn)的擴(kuò)展型相移算法EPSI,單一模式即可適用于從平面到弧面、超光滑到粗糙等各種表面類型,其3D重建算法,自動濾除樣品表面噪點(diǎn),在硬件系統(tǒng)的配合測量精度可達(dá)亞納米級別,讓3D測量變得簡單。
1、參數(shù)測量:粗糙度、圍觀輪廓尺寸、角度、面積、體積;
2、環(huán)境噪聲檢測:實(shí)時(shí)監(jiān)測;
3、雙重防撞保護(hù):軟件ZSTOP和Z向硬件傳感器;
4、自動拼接:3軸光柵閉環(huán)反饋;
5、雙重振動隔離:氣浮隔振,吸音隔振。
1、高精度、高重復(fù)性
3D重建算法、精密Z向掃描模塊和光學(xué)干涉技術(shù)組成的測量系統(tǒng),以及能有效隔離2Hz以上頻率的隔振系統(tǒng),保證了測量精度和測量重復(fù)性。
2、一體化操作的測量分析軟件
測量數(shù)據(jù)自動統(tǒng)計(jì),可視化窗口,結(jié)合自定義分析模板的自動化測量功能,實(shí)現(xiàn)了快速批量測量的功能,自動完成多區(qū)域的測量與分析過程。
3、精密操縱手柄
集成X、Y、Z三個(gè)方向位移調(diào)整功能的操縱手柄,可快速完成Z向聚焦、載物臺平移、找條紋等測量前工作。
4、雙重防撞保護(hù)措施
(1)軟件防撞保護(hù)ZSTOP
即在Z軸上設(shè)置停止位,設(shè)置位置到樣品表面的距離小于鏡頭的工作距離,當(dāng)鏡頭運(yùn)動到該位置時(shí),就立刻停止不再向下運(yùn)動,起到保護(hù)樣品和鏡頭的作用。
(2)Z軸硬件防撞傳感器
在鏡頭的上方安裝有機(jī)械防撞傳感器,當(dāng)鏡頭向下位移與樣品表面直接接觸時(shí),觸發(fā)感應(yīng)器,鏡頭與樣品表面變?yōu)檐浗佑|,并觸發(fā)緊急停止開關(guān),不再響應(yīng)向下位移的指令,避免鏡頭和樣品的損傷,雙重防護(hù),守護(hù)設(shè)備和產(chǎn)品,也守護(hù)每一分價(jià)值和信任。
白光干涉三維輪廓儀chotest讓輪廓測量價(jià)格更為實(shí)惠,應(yīng)用領(lǐng)域廣泛,操作簡便,可自動聚焦測量工件獲取2D,3D表面粗糙度、輪廓等一百余項(xiàng)參數(shù)。適用于各種產(chǎn)品、部件和材料表面的平面度、粗糙度、孔隙間隙、彎曲變形情況、腐蝕情況、表面缺陷、臺階高度、波紋度、磨損情況、面形輪廓、加工情況等表面形貌特征進(jìn)行測量和分析。
除主要用于測量表面形貌或測量表面輪廓外,白光干涉儀具有的測量晶圓翹曲度功能,非常適合晶圓,太陽能電池和玻璃面板的翹曲度測量,應(yīng)變測量以及表面形貌測量。
結(jié)果組成:
1、三維表面結(jié)構(gòu):粗糙度,波紋度,表面結(jié)構(gòu),缺陷分析,晶粒分析等;
2、二維圖像分析:距離,半徑,斜坡,格子圖,輪廓線等;
3、表界面測量:透明表面形貌,薄膜厚度,透明薄膜下的表面;
4、薄膜和厚膜的臺階高度測量;
5、劃痕形貌,摩擦磨損深度、寬度和體積定量測量;
6、微電子表面分析和MEMS表征。
主要應(yīng)用領(lǐng)域:
1、用于太陽能電池測量;
2、用于半導(dǎo)體晶圓測量;
3、用于鍍膜玻璃的平整度(Flatness)測量;
4、用于機(jī)械部件的計(jì)量;
5、用于塑料,金屬和其他復(fù)合型材料工件的測量。
型號 | W1 | |
光源 | 白光LED | |
影像系統(tǒng) | 1024×1024 | |
干涉物鏡 | 標(biāo)配:10× 選配:2.5×;5×;20×;50×;100× | |
光學(xué)ZOOM | 標(biāo)配:0.5× 選配:0.375×;0.75×;1× | |
物鏡塔臺 | 標(biāo)配:3孔手動 選配:5孔電動 | |
XY位移平臺 | 尺寸 | 320×200㎜ |
移動范圍 | 140×100㎜ | |
負(fù)載 | 10kg | |
控制方式 | 電動 | |
Z軸聚焦 | 行程 | 100㎜ |
控制方式 | 電動 | |
Z向掃描范圍 | 10 ㎜ | |
主機(jī)尺寸(長×寬×高) | 700×606×920㎜ |
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